上海依肯机械设备有限公司销售部

冻胶分散机，冻胶研磨分散机，凝胶分散机，纳米级冻胶分散机，纳米级凝胶分散机，有一种胶体凝结现象，这种凝结作用多发于分子胶体，在一定条件下，例如，当温度降低，胶体分散质浓度足够大时可以形成网状的结构而把全部的分散剂包络起来，形成一个整体，它也是一种胶冻状物质，称为冻胶。

冻胶分散至基础油内或者溶剂（卡波姆溶液）内，可以改性物料的特性。特别是对于纳米级冻胶的分散，必须采用高品质的分散设备，一般为9000rpm以上的分散机，这样才能确保分散的效果。另外冻胶本身流动性很差，所以一般建议在分散机前段加入一台转子泵，便于输送物料。

冻胶分散机，纳米级冻胶分散机，冻胶研磨分散机是由胶体磨和分散机组合而成，一体化的设备，先研磨后分散，转速高达14000rpm，是普通分散机的4-5倍！采用德国博格曼双端面机械密封，并配置机械冷却系统，保证冷却水的前提下，可24小时连续运行。
                       

CMD2000系列研磨分散设备是IKN（上海）公司经过研究刚刚研发出来的一款新型产品，该机特别适合于需要研磨分散乳化均质一步到位的物料。我们将三级高剪切均质乳化机进行改装，我们将三级变跟为一级，然后在乳化头上面加配了胶体磨磨头，使物料可以先经过胶体磨细化物料，然后再经过乳化机将物料分散乳化均质。胶体磨可根据物料要求进行更换（我们提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五种乳化头供客户选择）

CMD2000系列设备选型表

型号	流量 L/H	转速 rpm	线速度 m/s	功率 kw	入/出口连接 DN
CMD2000/4	300	9000	23	2.2	DN25/DN15
CMD2000/5	1000	6000	23	7.5	DN40/DN32
CMD2000/10	2000	4200	23	22	DN80/DN65
CMD2000/20	5000	2850	23	37	DN80/DN65
CMD2000/30	8000	1420	23	55	DN150/DN125
CMD2000/50	15000	1100	23	110	DN200/DN150

流量取决于设置的间隙和被处理物料的特性，同时流量可以被调节到允许量的10%。

1.表中上限处理量是指介质为“水”的测定数据。

2.处理量取决于物料的粘度，稠度和最终产品的要求。

3.如高温，高压，易燃易爆，腐蚀性等工况，必须提供准确的参数，以便选型和定制。

4.本表的数据因技术改动，定制而不符，正确的参数以提供的实物为准.

冻胶分散机，冻胶研磨分散机，凝胶分散机，冻胶在石油、医药等行业有突出的应用，IKN研磨分散机专业解决冻胶分散的问题，分散效果好，效率高，为冻胶的应用推波助澜！