安达铝镁加混悬液胶体磨，混悬液胶体磨，口服混悬液胶体磨，外用混悬液胶体磨，注射混悬液胶体磨，阿苯达唑混悬液胶体磨，布地奈德混悬液胶体磨，布洛芬混悬液胶体磨，蒙脱石混悬液胶体磨，多潘立酮混悬液胶体磨，磺胺二甲嘧啶混悬液胶体磨
安达铝镁加悬浮液是一种中和胃酸药，用于治疗胃及十二指肠溃疡或胃酸过多引起的反酸、烧心、疼痛、、嗳气等症状，是一种白色粘稠混合液。对于混悬液药剂的制备国家有严格的规定：药物本身的化学性质应稳定，在使用或贮存期间含量应符合要求；混悬剂中微粒大小根据用途不同而有不同要求；粒子的沉降速度应很慢、沉降后不应有结块现象，轻摇后应迅速均匀分散；混悬剂应有一定的粘度要求；外用混悬剂应容易涂布等。
增加混悬液的动力稳定性的主要方法是:
①尽量减小微粒半径，以减小沉降速度；
②增加分散介质的粘度，以减小固体微粒与分散介质间的密度差，这就要向混悬液中加入高分子助悬液，在增加介质粘度的同时，也减小了微粒与分散介质之间的密度差，同时微粒吸附助悬液分子而增加亲水性。混悬液中的微粒大小是不均匀的，大的微粒总是迅速沉降，细小微粒沉降速度很慢，细小微粒由于布朗运动，可长时间悬浮在介质中，使混悬液长时间地保持混悬状态。制备混悬液时，应使混悬微粒有适当的分散度，粒度均匀，以减小微粒的沉降速度，使混悬液处于稳定状态。
传统的混悬液生产都是采用普通胶体磨，转速只有3000rpm，生产出来的悬浮液颗粒较粗，静置一段时间容易产生絮凝，影响药效和使用，为此有医药厂家在考察了国内的设备之后，放弃了具有极度价格优势的国内设备，来询问低能耗、高转速、极精密定转子、研磨细的上海IKN高速胶体磨。该设备转速达到14000RPM，这可以通过变频调速通过皮带加速来实现。(转速是普通分散设备3-4倍，研磨的力度也是普通胶体磨的3-4倍，这样研磨的细度更小，效果更好)
混悬液胶体磨CM2000系列的特点：
①定转子被制成圆椎形，具有精细度递升的三级锯齿突起和凹槽。定子可以无限制的被调整到所需要的与转子之间的距离。
②齿列的深度：从开始的2.7mm 到末端的0.7mm，范围比较大，范围越大，处理的物料颗粒大小越广。
③沟槽的结构式斜齿，每个磨头的沟槽深度不一样，并且斜齿的流道的体积从上往下是从大到下。
一、转速和剪切速率：
IKN胶体磨，可选择德国机械密封，转速可以达到15000转
F=23/0.7X1000=32857S-1
F=40/0.7/X1000=57142S-1
国内胶体磨，可选择机械密封一般3000转，大约在14293-215440S-1
通过转速比较可知，这是乳粉碎研磨的重要因素，相当于前者是后者的2-3倍。
二、胶体磨头和间距：
IKN胶体磨，可以选择六种不同的模块头，实现多种功能，如三级乳化模块，超高速模块，CM胶体模块，CMO胶体模块，批次粉液液混合模块，连续粉液混合模块，间距可调，可实现1-10微米小粒径材料加工。
国内胶体磨，只有一种模块头，粒径细度有限，100微米以下较困难，重复性差。
三、机械密封：
IKN胶体磨，双机械密封，易于清洗，将泄漏降至，可24小时不停运转。
国内胶体磨，单机械密封或轴封，泄漏故障率高，产品泄漏进入马达，造成马达烧毁。
四、清洗：
IKN胶体磨，立式，皮带驱动，易于维护，可有效保护马达及齿轮箱，防止损坏,符合流体流动原理，具有CIP/SIP在线清洗，在线杀菌功能，无需拆卸，机器设计无死角，立式结构符合流体原理，清洗更简便。
国内胶体磨，卧式或立式（马达一体式），轴承部分受力较大，易于损坏，维护保养复杂，通常情况，需要拆卸机器进行清洗。
混悬液胶体磨，口服混悬液胶体磨，外用混悬液胶体磨，注射混悬液胶体磨，阿苯达唑混悬液胶体磨，安达铝镁加混悬液胶体磨，布地奈德混悬液胶体磨，布洛芬混悬液胶体磨，蒙脱石混悬液胶体磨，多潘立酮混悬液胶体磨，磺胺二甲嘧啶混悬液胶体磨